摘要:
对直径为40 μm,长为5 cm的褪膜玻璃包裹钴基(Co69.20Fe4.16 Si12.35B10.77 Cr3.42 Mo0.1)非晶丝进行电流退火和电流应力退火,研究了退火对巨磁阻抗效应的影响.结果发现,随着退火电流密度和外加应力的增大,丝的磁阻抗变化对外加磁场的敏感度先增大后减小,在20 A/mm2和90 MPa的退火条件下,灵敏度最高,可达1%/( A·m-1).以上述条件退火,敏感度最高可达19%/( A·m-1).
中图分类号:
袁 立;杨燮龙;赵振杰. 电流退火对钴基非晶丝巨磁阻抗效应的影响[J]. 华东师范大学学报(自然科学版), 2008, 2008(3): 120-124.
YUAN Li;YANG Xie-long;ZHAO Zhen-jie. Influence of Joule annealing on GMI effect for Co-based amorphous microwires(Chinese)[J]. Journal of East China Normal University(Natural Sc, 2008, 2008(3): 120-124.